一、離子清洗機概述

離子清洗機，又名等離子清洗機，是通過等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表麵汙漬的清洗設備。

自1952年以（yǐ）來，“TDC公司”就一直給（gěi）電子行業提供高（gāo）質量的生產設備，並（bìng）且（qiě）由於我們優質的售後服務和技術支持而獲得極（jí）高的聲譽。此外，“TDC公司”走（zǒu）在世界（jiè）清洗技術的前列，生產創新、優質、可靠的產品，同時又不對環境造成任何（hé）不良的影響。Nu/CLEAN型生產線水洗機是當今同類產品市場上最安（ān）全、最安靜、最節能（néng）的產品。“TDC公司”還（hái）是第一個生（shēng）產混合動力水洗機的公司, 供選用的混合動（dòng）力Nu/CLEAN型水洗機（jī）因（yīn）為使用天然（rán）氣而不是（shì）電能（néng）來加熱水洗機裏麵的水（shuǐ）而（ér）可以大（dà）大（dà）節省能（néng）源（yuán）成本。

Nu/CLEAN型水洗機除了擁（yōng）有這（zhè）些技術和環保優勢之外，它還具有容易使用和保養的特（tè）點。觸摸屏控製係統（tǒng）使用起來非常直觀、簡單，可（kě）以（yǐ）控製和（hé）監督水洗機的所有重要功能。警報和保養顯示屏讓操作員能（néng）夠馬上（shàng）知道需要采取什麽措施。水箱、機櫃以及控製係統（tǒng）的結構設計令日常保養工作既簡（jiǎn）單又快捷。

“TDC公司”擁有幾十年的水洗機生產（chǎn）經驗和遍（biàn）布各（gè）地的客戶服（fú）務網絡，是滿足您（nín）清洗要求的最佳選（xuǎn）擇。

二、離子清洗機（jī）的清洗原理

無機氣體被激發為（wéi）等離（lí）子（zǐ）態→氣（qì）相物質被吸附在固體表麵→被吸附基團（tuán）與固體表麵（miàn）分子反應生（shēng）成產物分（fèn）子→產物分子解析（xī）形成氣相→反應殘餘物脫離表麵。

三、離子清洗機的（de）清洗特點

1、離子清洗機（jī）不分處理對象的（de）基材類型，均（jun1）可進行處理，如（rú）金屬、半導體、氧化物（wù）和大（dà）多數高分子材料等（děng），並可實現整體和局部以及（jí）複雜結構的清洗。

2、容易采用數控技術，自動化程度高。

3、具有高精度的控製裝（zhuāng）置，時間（jiān）控製的精度很高。

4、正確的等離子體清洗不會在表麵產生（shēng）損（sǔn）傷層，表麵質量得到保證。

5、在真（zhēn）空中進行，不汙染環境，保證清洗表麵不被二次汙染（rǎn）。

四（sì）、離子清洗機的清洗分類及性能

離子清洗機主要通過反應類型和激發頻率兩個方麵來分類。

1、反應（yīng）類型分類（lèi）

等離子體與（yǔ）固體表麵發生反應可以分為物理反應（離子轟擊）和化學反應。

1）物理反應機製是活性（xìng）粒子轟擊待清洗表麵，使汙染物脫離表麵最（zuì）終被真空泵吸走。物理反應為主的（de）等離子體清洗，也叫做濺（jiàn）射腐蝕（SPE）或離子銑（xǐ）（IM），其優點：本身不發（fā）生化學反應，清潔表麵不會留下任何的氧化物，可以保持被清（qīng）洗物的化學純淨性。缺點：對表麵產生了很大（dà）的損害，會產生很大的熱效應，對被清洗表麵的各種不同物質選擇性差，腐蝕速度較低。典型的等離（lí）子體物理清（qīng）洗工藝是氬氣等離子體清洗。

2）化學反應機製是各種活性的粒（lì）子和汙染物反應（yīng）生成易揮發性的（de）物質，再由真空泵（bèng）吸走揮發（fā）性的物（wù）質。化學反應為主的等離子體清洗的優點：清洗速度較高（gāo）、選擇性好、對清除有（yǒu）機汙染物比較有效，缺點：表麵產（chǎn）生氧化物。典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產生的氧（yǎng）自由基非常活潑，容易與碳（tàn）氫化合物發生反應，產生（shēng）二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發物，去除表麵（miàn）的汙染物。

2、激發頻率分類

等離子態的（de）密（mì）度和激（jī）發（fā）頻率的（de）關係式： nc=1.2425×108v2 ，其（qí）中nc為等離子態（tài）密度（cm-3），v為（wéi）激發頻（Hz）。 等離子體激發頻率分為：頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等（děng）離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。超聲等離子體的自偏（piān）壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右（yòu），微波（bō）等離子體的自偏壓很低，隻有幾十伏。超聲等離子體發生的（de）反應為物理反應，射頻等離子體發（fā）生的反應既有物理反應又有化學反應，微波等離子體（tǐ）發生的反應為化學（xué）反應。